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等离子去胶机

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价格 2000
订货量 1
  • 型号 PLASMA
  • 品牌
  • 厂商性质 生产商
  • 所在地 烟台市

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更新时间:2020-08-01 20:59:40浏览次数:120

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产品简介

加工定制 电压 220v
等离子去胶机应用:
有机物以及无机物的残留物去除
光刻胶剥离或灰化
去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用
清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架
提高黏附性,消除键合问题
塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能
产生亲水或疏水表面

详细介绍

等离子去胶机应用:

  • 有机物以及无机物的残留物去除
  • 光刻胶剥离或灰化
  • 去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用
  • 清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架
  • 提高黏附性,消除键合问题
  • 塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能
  • 产生亲水或疏水表面

等离子清洗机,彻底的剥离式清洗

在工业生产过程中对电子元件、光学部件、机械零件、高分子材料等表面的超纯度清洗,以消除极微小污垢颗粒,常常是一道非常关键的工艺。

等离子清洗机,彻底的剥离式清洗适用于摄像头及行业、半导体IC领域,硅胶、塑胶、聚合体领域,汽车电子行业等等。
?1、摄像头、指纹识别行业:软硬结合板金PAD表面去氧化;IR表面清洗、清洁。
2、半导体IC领域:COB、COG、COF、ACF工艺,用于打线、焊接前的清洗
3、硅胶、塑胶、聚合体领域:硅胶、塑胶、聚合体的表面粗化、刻蚀、活化

 在IC芯片制造领域中,等离子体处理技术已是一种不可替代的成熟工艺,不论在芯片源离子的注入,还是晶元的镀膜,亦或是华宇平台网址授权开户网站的低温等离子体表面处理设备所能达到的:在晶元表面去除氧化膜、有机物、去掩膜等超净化处理及表面活化提高晶元表面浸润性。

 另外,可用等离子处理硅橡胶以增加其表面活性,然后在表面涂度一层不易老化的疏水材料,其效果也非常好等离子清

等离子清洗机,表面处理活化,刻蚀涂层设备广泛用于1、等离子表面活化/清洗2、等离子处理后粘合3、等离子蚀刻/活化4、等离子去胶;5、等离子涂镀(亲水,疏水)6、增强邦定性7、等离子涂覆8、等离子灰化和表面改性等场合通过其处理,能够改善材料表面的浸润能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂

plasma等离子清洗机广泛应用于刻蚀、脱胶、涂层、灰度、等离子体表面处理。通过表面处理,可以提高材料表面的润湿性,从而提高材料的涂层等性能,增强材料的附着力、粘结力和去除有机污染物。现在市场上出现的超声波清洗机也并不能达到改性的效果,只能清洗一些表面的可见物,因为种种在制程中的不良,从而衍生了等离子清洗机之类的高特技产品。也越来越多的工业使用等离子清洗机,通过等离子清洗机可以达到表面改性、清洗、提升产品性能等作用,大大的减少了产品在制程中所造成的不良率,从而提高产品品质、降低生产成本等等。

 等离子清洗机,表面处理活化,刻蚀涂层设备可以增加表面张力,精细清洁,去除静电,活化表面等功能,广泛应用于玻璃、金属、线缆、橡胶、塑料、糊盒、糊箱、橡胶表面改性处理。

等离子清洗设备主要用途有:1.去除灰尘和油污、去静电; 
                                      2.提高表面浸润功能,形成活化表面;   
                                    3.提高表面附着能力、提高表面粘接的可靠性和持久性;
                                      4.刻蚀物的处理作用.  

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